膜厚试验

检测目的： 检测镀层、膜层的厚度

检测范围： 金属镀层、氧化物层、涂层、电镀层等厚度

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项目介绍测试方法检测标准

项目介绍

膜厚试验是应用于在线膜厚测量，测氧化物，SiNx，感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度，光干涉法是一种无损，精确且快速的光学薄膜厚度测量技术，薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

氧氮氢仪.jpg

测试方法

金相显微镜法

利用显微镜光学原理，对物体进行放大，可以观察到物体表面或断面的金相显微结构。

库伦法

根据库仑定律,以溶解镀层金属消耗的电量、溶解镀层面积、镀层金属的电化当量、密度以及阳极溶解的电流效率计算镀层的局部厚度。

磁性法

利用磁通量随涂膜的非磁性层在磁体和底材之间厚度的变化而变化的原理来测定磁性金属(铁基)底材上的涂膜厚度。

电涡流法

利用感应涡流随仪器探头线圈与基础金属间涂膜厚度的大小变化来测定非磁性金属(非铁基)底材上非导电涂层膜厚。

X光射线法

X射线射到电镀层表面，产生X射线荧光，根据荧光谱线元素能量位置及其强度确定镀层组成及厚度。

检测标准

检测项目	测试标准	标准名称	样品要求
膜厚试验	ASTM E376-2019	用磁场或涡流(电磁)检验法测量涂层厚度的规程	客供
	ASTM B499-2009	用磁化法测量磁性基底金属材料的非磁化涂层厚度的试验方法
	DIN EN ISO 2178-2016	/
	GB/T 4956-2003	磁性基体上非磁性覆盖层覆盖层厚度测量磁性法
	GB/T 4957-2003	非磁性基体金属上非导电覆盖层覆盖层厚度测量涡流法

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